مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی فراخوان جذب ایده توسعه محصول را منتشر شد

به گزارش گروه فناوری خبرگزاری دانشجو، مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی (ICAN) با همکاری مجموعه چالش های نوآوری و فناوری Innoten و با هدف توسعه محصول با استفاده از دستگاه اسپارک پلاسما سینترینگ (SPS)، - مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی (آیکن) و اینوتن با هدف توسعه محصول با استفاده از دستگاه اسپارک پلاسما سینترینگ، فراخوان جذب ایده های نو را اعلام کرده است.

به گزارش گروه فناوری خبرگزاری دانشجو، مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی (ICAN) با همکاری مجموعه چالش های نوآوری و فناوری Innoten و با هدف توسعه محصول با استفاده از دستگاه اسپارک پلاسما سینترینگ (SPS)، به دنبال حمایت از طرح ها و ایده های خلاقانه است.

روش اسپارک پلاسما سینترینگ یک روش تحت فشار است که براساس تخلیه الکتریکی پالس­ های جریان در فاصله بین ذرات پودر و تولید اسپارک (جرقه) عمل می­ کند.

زمانی که اسپارک ناشی از تخلیه الکتریکی در محل اتصال یا فاصله بین ذرات پودر ایجاد می ­شود، حرارت موضعی در ستون تخلیه، باعث افزایش آنی دما تا بیش از 1000 درجه سانتی گراد می­ شود.

این حرارت بالا سبب تبخیر ناخالصی ­ها و همچنین تبخیر سطحی ذرات پودر در محدوده اسپارک می­ شود.