تجزیه و تحلیل نوعی لایه های اپتیکی

محققان دانشگاه فناوری های نوین سبزوار و دانشگاه شهید بهشتی در پژوهشی مشترک، موفق به تجزیه و تحلیل نانو سختی و نانو خراش لایه های نانو متری اپتیکی و فوق شفاف F: - SiOx شدند.

به گزارش ایسنا، در پژوهش دکتر مرضیه عباسی فیروزجاه، عضو هیئت علمی دانشگاه فناوری های نوین سبزوار با همکاری دکتر بابک شکری، عضو هیئت علمی دانشگاه شهید بهشتی، لایه های اپتیکی نانومتری و فوق شفاف F:SiOx به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده و ویژگی های نانو سختی و نانو خراش آنها مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است.

در راستای این پژوهش بررسی مقاومت لایه ها در برابر شرایط محیطی سخت در شرکت الکترواپتیکولیزر اصفهان صورت گرفت و کیفیت نمونه ها در آزمون مربوطه مورد تأیید قرار گرفت.

محصول این پژوهش کاربردهای فراوانی در صنعت اپتیک، اپتوالکتریک و نانو الکتریک دارد.

بنا بر اعلام روابط عمومی وزارت علوم، این مقاله با درجه اعتبار Q1 در مجله معتبر علمی Journal of Non-Crystalline Solids به چاپ رسیده است.

انتهای پیام