
اختراع لایه نانولیفی محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر در آمریکا ثبت شداختراع محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر در زمینه تولید لایه های نانولیفی ضدباکتری و معطر با قابلیت رهایش کنترل شده ترکیبات فعال در اداره ثبت اختراعات آمریکا ثبت شد. - اختراع لایه نانولیفی محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر در آمریکا ثبت شد اختراع محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر در زمینه تولید لایه های نانولیفی ضدباکتری و معطر با قابلیت رهایش کنترل شده ترکیبات فعال در اداره ثبت اختراعات آمریکا ثبت شد. به گزارش ایسنا، به نقل از روابط عمومی دانشگاه صنعتی امیرکبیر، اختراع لایه نانوالیافی آنتی باکتریال با عنوان Antibacterial Nanofious Layer که نخستین بار در قالب درخواست بین المللی به شماره PCT/IB2018/055222 در تاریخ 14 ژوییه 2018 از طریق سازمان جهانی مالکیت فکری (WIPO) ثبت شده بود، پس از طی مراحل ارزیابی و داوری علمی، با شماره US 2021/0220255 A1 در 22 ژوییه 2021 منتشر شد و سرانجام در 28 اکتبر 2025 با شماره US 12453695 B2 در اداره ثبت اختراعات آمریکا به مرحله گرنت رسید. دکتر سمیه اکبری، عضو هیئت علمی دانشگاه و مخترع اصلی، درباره مسیر ثبت این اختراع گفت: فرایند ثبت این پتنت از اواخر سال 1395 با حمایت کانون پتنت ایران آغاز شد و پس از مراحل متعدد بررسی و داوری بین المللی، نهایتاً موفق به اخذ ثبت نهایی در اداره ثبت اختراعات آمریکا شد. برچسب ها: دانشگاه صنعتی امیرکبیر - دانشگاه صنعتی - اختراع - امیرکبیر - دانشگاه - صنعتی - آمریکا |
آخرین اخبار سرویس: |