سد محکمی در برابر فرار یون هیدروژن ساخته شد

پژوهشگران دانشگاه کوماموتو توانستند به طور مؤثر یک لایه نازک از اکسید گرافن را بسازند که عاری از حفره بوده و می تواند سد محکمی در برابر یون هیدروژن باشد.

- پژوهشگران دانشگاه کوماموتو توانستند به طور مؤثر یک لایه نازک از اکسید گرافن را بسازند که عاری از حفره بوده و می تواند سد محکمی در برابر یون هیدروژن باشد.

به گزارش ایسنا، در مقاله ای که تیم تحقیقاتی دانشگاه کوماموتو به سرپرستی استادیار کازوتو هاتاکیاما و پروفسور شینتارو آیدا در نشریه Small منتشر کردند، جزییات مربوط به ساخت یک لایه محافظ در برابر یون هیدروژن تشریح شده است.

این لایه که به عنوان سد در برابر یون هیدروژن عمل می کند، از جنس اکسید گرافن (GO) بوده که بدون منافذ داخلی است.

این نتایج بهبود قابل توجهی در پوشش های محافظ برای طیف وسیعی از کاربردها را امکان پذیر خواهد کرد.

از آنجایی که اکسید گرافن سابقه هدایت یونی قوی دارد، استفاده از آن به عنوان یک مانع یونی دشوار است.

از سوی دیگر، محققان با از بین بردن منافذ داخلی، ماده ای با کیفیت بالا به عنوان سد یون هیدروژن تولید کردند.

داده های رسانایی پروتون از طیف سنجی امپدانس AC نشان می دهد که فیلم اکسید گرافن جدید تا 100 هزار برابر بهتر از فیلم های استاندارد اکسید گرافن از نظر سد یون هیدروژن عمل می کند.