ارائه روشی برای تولید گرافن شفاف و بزرگ در مقیاس صنعتی

با استفاده از روش القاء مغناطیسی محققان موفق به تولید گرافن شفاف در ابعاد بزرگ شدند.

این روش محدودیت های محفظه خلأ را نداشته و نسبت به روش CVD مزیت هایی دارد.

- با استفاده از روش القاء مغناطیسی محققان موفق به تولید گرافن شفاف در ابعاد بزرگ شدند.

این روش محدودیت های محفظه خلأ را نداشته و نسبت به روش CVD مزیت هایی دارد.

به گزارش سایت قطره و به نقل ازایسنا، طی یک دهه گذشته، رسوب بخار شیمیایی (CVD) به عنوان روش اصلی برای رشد فیلم های گرافنی با کیفیت بالا استفاده شده است.

با وجود پیشرفت های قابل توجه مانند سنتز فیلم های گرافن تک کریستالی در ابعاد چند سانتیمتری و تولید ویفرهای گرافن تک کریستالی 4 اینچی در 10 دقیقه، روش CVD هنوز هم از نظر کارآیی و یکنواختی به دلیل پیچیده بودن با محدودیت هایی روبرو است.

رشد فیلم های گرافنی در مقیاس صنعتی هنوز یک چالش بزرگ محسوب می شود.

محققان مرکز ملی علم و فناوری نانو در پکن روش جدیدی برای رشد گرافن ارائه کرده اند که بر بسیاری از محدودیت های پیشین روش CVD غلبه می کند.

روش فروپاشی القایی الکترومغناطیسی روبشی (SEMI) که این گروه ارائه کردند، نیاز به محفظه خلأ یا کاتالیست نداشته و می توان با آن با سرعت بسیار بالا گرافن را در ابعاد بسیار بزرگ و به شکل یکنواخت در هوای آزاد تولید کرد.