حذف آلاینده هوا تحت تابش نور مریی بدون تولید محصول جانبی مضر

محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر موفق شدند طی اجرای پروژه ای در مقطع کارشناسی ارشد، آلاینده های NO و NO2 را با سنتز ماده ای فتوکاتالیستی تحت شرایط محیطی و بدون تولید محصول جانبی مضر از بین ببرند.

- محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر موفق شدند طی اجرای پروژه ای در مقطع کارشناسی ارشد، آلاینده های NO و NO2 را با سنتز ماده ای فتوکاتالیستی تحت شرایط محیطی و بدون تولید محصول جانبی مضر از بین ببرند.

به گزارش سایت قطره و به نقل ازایستا، مهندس مرضیه مدرس، دانش آموخته مقطع کارشناسی ارشد رشته مهندسی شیمی گرایش محیط زیست دانشگاه صنعتی امیرکبیر و محقق طرح سنتز پوشش های فتوکاتالیستی مناسب جهت حذف آلاینده های NOx گفت: در این تحقیق نانو ترکیبات ZnO اصلاح شده با CdS با روش سنتز شیمیایی مرطوب با موفقیت سنتز شد و به صورت یک فیلم پوششی روی سطح به منظور حذف NOx تحت تابش نور مریی مورد بررسی قرار گرفت.

وی با اشاره به هدف از اجرای این طرح گفت: هدف از انجام این طرح استفاده از یک فتوکاتالیستِ فعال در محیط نور مریی بوده است که به منظور حذف آلاینده NOx از هوا مورد استفاده قرار گرفت.

با توجه به اهمیت حذف NOx از هوا، سنتز پوشش های فتوکاتالیستی در محیط های باز شهری در مقیاس آزمایشگاهی و حتی پایلوت مورد توجه قرار گرفته است.